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概要説明:高温による回路基盤(Si基盤)のリーク電流増大
ストレス大分類:温度
ストレス小分類:高温
故障メカニズム大分類:アロイスパイク
故障メカニズム小分類:
故障フェーズⅠ:高温処理
故障フェーズⅡ:絶縁劣化
故障モード:リーク電流増大
アイテム:回路基盤(Si基盤)
故障の発生原理:
故障モードの検出:SEM?
SEM
走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope)
主な業界・分野:
抑制対策(再発防止策):
抑制対策(評価基準):
備考: